十年追赶只是幌子，光刻机巨头真实算盘，中国智造崛起之路，不止于此
ASML专家称需十年，众人都在讨论，十年时光长吗？或许ASML自身也无把握，市场变幻极速，没人能确定，若ASML止步不前，就只能等着被淘汰，中国光刻机并非为了追赶别人，得有自身的路径，不能老是想着追赶。ASML在华夏市场斩获了诸多收益，其二季度在中国大陆的营收占其总营收近半数，达49%，这显示出其比较倚重中国市场，不过另一方面，它却对中国技术施行封锁，此种状况颇有矛盾性，它一面声称中国技术不行，得十年方能赶超，一面又向中国售卖DUV光刻机且售价不菲，好像有轻慢之意却又希图获利，还向投资者宣称其EUV技术领先，无需忧虑，这是否和以往引进高铁技术的情形相像，结局差点被人牵制，不可重蹈覆辙。
EUV光刻机比较复杂，很多层面需依靠他国，中芯国际就因而吃过亏，所以中国得研发自身方案，采取LDP技术，也就是激光诱导等离子体，它听上去有一定繁杂性，但实际上可以简化设备构造、减少成本，哈工大在该领域有突破，该校研发的光源技术十分优异，ASML是运用激光轰击锡滴，而我国的LDP是激光诱导放电，能量更加集中，成本也更低，这是优良方向。目前长三角地域，光刻机产业正慢慢发展，上海微电子的曝光平台、国望光学的镜片、科益虹源的激光模块，全都在加速国产代替进程，另外在人材方面，清华、浙大、华科等高校光刻方向的博士结业生，数目比ASML环球研发团队职员还多，人材相当主要。
展开剩余37%目标清晰明了，2025年第三季度要进行试产，此情况表明原理验证已基本完成，接下来便是提高良品率，良品率颇为关键，要摆脱被卡脖子的局面，将主动权把握在自己手中，这才是目标所在。莫被他们的高傲感所迷惑，他们称需要十年时间，这是他们自身的斟酌，而我们已经变换了赛道，LDP技术存有实现超越的机会，市场自会对所有加以检验，以往被封锁，才有了天宫、北斗当下中国的EUV也在推进进程中，虽然仍有良品率、产能、专利等问题急需解决，但未来值得期待，中国必定能行。ASML专家所言可作听闻，不必过度挂怀，咱有自身节奏，中国光刻机，奋勇向前，
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